一、產品概述：

納米級二氧化硅拋光液由高純納米二氧化硅等多種復合材料配置而成，通過高科技術分散成納米顆粒，分散均勻的納米拋光液，具有高強度、高附著力、成膜性好、高滲透、高耐候性、高耐磨性等特點，是一種性能優良的CM P技術用的拋光材料。
二、技術指標：

 
三、應用特性：

1、拋光速率快，利用分散均勻大粒徑的膠體二氧化硅等粒子達到高速拋光的目的；
2、高純度，拋光液不腐蝕設備，使用的安全性能高；
3、高平坦度加工，本品拋光是利用SiO2等材料的均勻納米粒子，不會對加工件造成物理損傷，達到高平坦化加工；
4、有效有效減少拋光后的表面劃傷，降低拋光后的表面粗糙度。
 
四、應用范圍： 
1、可用于微晶玻璃的表面拋光加工中。
2、用于硅片的粗拋和精拋以及IC加工過程，適用于大規模集成電路多層化薄膜的平坦化加工。
3、用于晶圓的后道ＣＭＰ清洗等半導體器件的加工過程、平面顯示器、多晶化模組、微電機系統、光導攝像管等的加工過程。
4、廣泛用于CMP化學機械拋光，如：硅片、化合物晶體、精密光學器件、硬盤盤片、寶石、大理石等納米級及亞納米級拋光加工。
5、本產品可以作為一種添加劑，也可應用于水性高耐候石材保護液、水性膠粘劑與高耐候外墻涂料等領域。
 
五、使用注意事項：
 
1、本品放置時間長后，若有少量沉淀屬于正常現象，用攪拌機攪拌均勻不影響使用。
2、如有產品變稠現象，是二氧化硅本身的特性，可以按照與水1:1的比例稀釋，攪拌均勻后再使用。
3、密閉，干燥陰涼處儲存，避免太陽直射。