ATM-PNT-2112-012 SiC2晶體試磨案-掏棒外徑平面

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ATM-PNT-2112-012 SiC2晶體試磨案-掏棒外徑平面-加工測(cè)試報(bào)告

1.目前在第三代半導(dǎo)體晶片，大部分采用單晶SIC，透明度較高的屬于處理

器晶片，含碳量較高比較黑的SIC，屬于功率元件晶片。

4”晶圓的毛胚晶砣外徑大約6"(150mm)，掏料的鉆石刀具內(nèi)徑約103mm。所

以掏料崩邊1-1.5mm都還是被允許，兩端面整平也大概要加工掉1-1.5mm。

研磨外徑時(shí)基本沒(méi)有崩邊，只能算是有毛刺。晶棒初整形完成之后，進(jìn)行切

片，切片完成之后，每一片都需要經(jīng)過(guò)整平、減薄、拋光、清洗，
反覆工程之后才完成Wafer。

2.以上制程在4”方面基本都是比較成熟，也在逐步優(yōu)化提升良率。6”的部

份目前不良率較高，持續(xù)精進(jìn)中!當(dāng)然8”的晶砣也持續(xù)在優(yōu)化制程以及良率

。

第三代半導(dǎo)體我想依然會(huì)在多年之后，與SI晶圓一樣以12”為主，甚至進(jìn)化

到16”-18”。

(6”晶砣只能掏出4”晶棒，8”晶砣估計(jì)也只能掏出6”晶棒)

3.加工的難度在于，刀具是鉆石刀具，工件硬度接近鉆石(莫適硬度約9.5)

，但是脆度又高于鉆石。此次測(cè)試最主要是要找到合適的鉆石刀具的外型、

燒結(jié)方式等條件。一次測(cè)試刀具就廢掉幾萬(wàn)臺(tái)幣的費(fèi)用，但是希望對(duì)于FVGC

的推展有所助益。

附加檔案提供您一個(gè)初成形的制程圖，以方便理解!

目前單晶SIC長(zhǎng)晶4”制程已經(jīng)成熟，厚度大概只有不到30mm，預(yù)計(jì)可以切

割成20-25片晶圓。目前SIC長(zhǎng)晶繼續(xù)朝厚度以及直徑6”晶砣發(fā)展。

切削測(cè)試報(bào)告是以FVGC-50S試加工(掏棒)4”晶圓，研磨外圓為主。兩端面

整平建議采用平面磨床研磨，一次可以6-8個(gè)一盤為原則，反面整平。

整平如采用旋轉(zhuǎn)臺(tái)磨床，雖然加工效率較高，但是一次只能研磨一件，適合

于8”以上晶砣或晶片研磨。

測(cè)試報(bào)告中主軸并未采用超聲波主軸，由于單晶SIC的硬度類鉆石，脆度更

高!如采用超聲波應(yīng)是效果會(huì)更好!

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