半導體和LCD用瑞澤高純氨氣干燥裝置 

雙式結(jié)構(gòu)，一組工作， 另一組再生備用,而且工作和再生都自動進行，故能連續(xù)供氣，一臺能頂單式的兩臺使用。

本裝置雙系統(tǒng)結(jié)構(gòu)，一組工作，另一組再生備用，且工作和再生都自動進行，故能夠長期連續(xù)供氣；當雜質(zhì)吸附飽和后，可通過生恢復活性，故壽命長。

工藝要求：

液氨進入氨氣干燥裝置后雜質(zhì)含量應控制為：

氨氣露點≤-60℃     流量1~500Nm3/h     塵埃顆粒＜0.1μm      

含油量＜0.1ppm

工作壓力0~0.8 MPa    本裝置壓降＜0.05MPa 

本裝置應用領域：化工、冶金工業(yè)、還原工藝等。

售后

為了解除用戶選用我公司產(chǎn)品的后顧之憂，我們一貫奉行如下的滿意標準。

1.        如果產(chǎn)品本身存在任何質(zhì)量問題，我公司負責包修，包換，包退；

2.        如果產(chǎn)品在運輸途中損壞，我公司負責包修，包換，包退；

3.        在保修期內(nèi)的使用損壞，我公司負責包修，包換，包退；

4.        產(chǎn)品的免費保修期為一年；

5.        我公司終身有償維修，只收取相關維修材料費用及差旅費用。

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