氣氛爐/真空氣氛爐供應
HMF1700系列真空氣氛爐是本公司新開發的一種高溫箱式爐，使用1700℃硅鉬棒作為加熱元件。廣泛用于材料或化學實驗室在真空或氣氛狀態下燒結各種新材料樣品，溫度控制采用高精度控溫儀能控制到精度+/-1 ℃并且可以30段程序控溫，{zg}溫度1620℃.
工作溫度：室溫~1800℃（自由選擇）
加熱元件：電阻絲/硅碳棒/硅鉬棒/鉬絲
爐殼結構：雙層殼體結構
爐膛材質：進口高純氧化鋁多晶體纖維
爐門結構：側開門
爐膛結構：圓形/方形
爐膛尺寸：1L~500L(自由選配）
溫控系統：PID調節、自整定功能，并可編制30段升降溫程序
測溫方式：熱電偶
控溫精度：±1.0℃
升溫速率：推薦≤5℃/min，最快升溫速率≤10℃/min
可通氣氛：氫氣、氮氣、氬氣等多種氣體

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