氣氛爐/真空氣氛爐供應
HMF1700系列真空氣氛爐是本公司新開發(fā)的一種高溫箱式爐，使用1700℃硅鉬棒作為加熱元件。廣泛用于材料或化學實驗室在真空或氣氛狀態(tài)下燒結各種新材料樣品，溫度控制采用高精度控溫儀能控制到精度+/-1 ℃并且可以30段程序控溫，{zg}溫度1620℃.
工作溫度：室溫~1800℃（自由選擇）
加熱元件：電阻絲/硅碳棒/硅鉬棒/鉬絲
爐殼結構：雙層殼體結構
爐膛材質：進口高純氧化鋁多晶體纖維
爐門結構：側開門
爐膛結構：圓形/方形
爐膛尺寸：1L~500L(自由選配）
溫控系統(tǒng)：PID調節(jié)、自整定功能，并可編制30段升降溫程序
測溫方式：熱電偶
控溫精度：±1.0℃
升溫速率：推薦≤5℃/min，最快升溫速率≤10℃/min
可通氣氛：氫氣、氮氣、氬氣等多種氣體

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