三級納米碳酸鈣分散機，納米碳酸鈣研磨分散機，納米碳酸鈣分散設備，碳酸鈣分散機，超細分散機，納米分散機

納米碳酸鈣又稱超微細碳酸鈣。標準的名稱即超細碳酸鈣。納米碳酸鈣應用最成熟的行業(yè)是塑料工業(yè)主要應用于高檔塑料制品。可改善塑料母料的流變性，提高其成型性。用作塑料填料具有增韌補強的作用，提高塑料的彎曲強度和彎曲彈性模量，熱變形溫度和尺寸穩(wěn)定性，同時還賦予塑料滯熱性。納米碳酸鈣用于油墨產(chǎn)品中體現(xiàn)出了優(yōu)異的分散性和透明性和極好的光澤、及優(yōu)異的油墨吸收性和高干燥性。納米碳酸鈣在樹脂型油墨中作油墨填料，具有穩(wěn)定性好，光澤度高，不影響印刷油墨的干燥性能．適應性強等優(yōu)點。
                   

納米碳酸鈣的分散難點：納米碳酸鈣分散到水中或者溶劑當中，容易出現(xiàn)抱團的現(xiàn)象，導致物料粒徑變大，分散效果不佳，產(chǎn)品改性不充分。

如果使用普通的分散設備，很難將納米碳酸鈣分散均勻，會出現(xiàn)團聚的現(xiàn)象，團聚體難以打開，而如果采用CIK{zx1}研發(fā)的分散設備，研磨分散機的話，先研磨后分散機，解決團聚問題，可達納米碳酸鈣還原至納米級。

CIK研磨式分散機，是由膠體磨+分散機結(jié)合而成的設備，主要是為了解決納米級物料的分散，如：納米碳酸鈣、納米氫氧化鎂、納米氧化鋁、石墨烯、碳納米管等納米級物料的分散。

NKD2000系列研磨分散設備是CIK（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

NKD2000系列三級納米碳酸鈣分散機的特點：

①   線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④   在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

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通常情況，需要拆卸機器進行清洗

NK2000系列驅(qū)蟲藥混懸膠體磨的特點：

①定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。

②齒列的深度：從開始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。

③溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。

高剪切膠體磨主要用途：

高剪切膠體磨適用于制藥、食品、化工及其它行業(yè)的濕物料超微粉碎，能起到各種半濕體及乳狀液物質(zhì)德粉碎、乳化、均質(zhì)和混合，主要技術(shù)指標已達到國外同類產(chǎn)品的先進水平。 

NK2000系列阿達唑混懸液管線式膠體磨設備選型表：

注：流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到{zd0}允許量的10%

膠體磨的細化作用一般來說要弱于均質(zhì)機，但它對物料的適應能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使用膠體磨進行細化。 

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