三級納米管線式核糖高剪切均質機，核糖高剪切研磨均質機，卡介多糖核酸注射液管線式高剪切均質機，CIK高剪切研磨均質機采用德國先進的研磨與均質技術，設備將CIK先進的膠體磨技術與CIK先進的超高速均質乳化技術做了精密的結合，在保證轉速{zg}達到14000rpm的技術上，將工作部件定轉子間隙無限做小，目前極限值可以達到0.2mm（傳統技術做到0.5mm定轉子間就會發生摩擦），并且可以保證定轉子在14000rpm運行的情況下不發生摩擦，這樣就大大提高了設備的剪切速率，可以將類似于馬鈴薯的原料藥打的特別細，原料藥研磨的越細、均質化越好，中間體藥顏色就越白，這樣多糖核酸的提取率就越高，浙江某大型藥企集團，利用CIK高剪切研磨均質機可以多糖核酸提取率提高至70-80%，而傳統工藝采用的是超聲波均質機，提取率只能維持在百分之30-40%之間。

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高剪切研磨分散機采用了二級處理結構，{dy}級采用了高剪切膠體磨的磨頭模塊，第二季采用了高剪切分散乳化機的分散乳化模塊，第二級模塊可根據客戶對物料的處理要求開配定轉子，定轉子可配2P、2G、4M、6F、8SF，且定轉子精密度都達到了國際{lx1}水平。

三級納米管線式核糖高剪切均質機是 CIK（上海）公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們 將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。磨頭下面的膠體磨可根據物 料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。

   研磨分散機工作原理：研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒（或稱為轉子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉，被加工物料通過本身的重量或外 部壓力（可由泵產生）加壓產生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉齒之間的間隙（間隙可調）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有 效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。

研磨分散機的細化作用一般來說要強于均質機，但它對物料的適應能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。 

研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

    {dy}級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因 為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區別 是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗指定工作頭來 滿足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出最終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

    NKD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精 細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

設備等級：化工級、衛生I級、衛生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯結形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器

1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。

2 處理量取決于物料的粘度，稠度和最終產品的要求。

3 如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準確的參數，以便選型和定制。

4 本表的數據因技術改動，定制而不符，正確的參數以提供的實物為準。

5 本系列機型具有短程送料能力，無自吸功能，須選用高位進料；物料粘度或固含量高導致不能正常進料和輸送時，須選用壓力或輸送泵進料或送料，輸送泵的壓力和流量與被選機型相匹配。