2．溫度 
溫度的不同，生成的晶形和結晶水會發生改變，溫度一般控制在較小的溫度范圍內。冷卻結晶時，若降溫速度過快，溶液很快達到較高的過飽和度，生成大量微小晶體，影響結晶產品的質量。溫度{zh0}控制在飽和溫度與過飽和溫度之間。
蒸發結晶時，蒸發速度過快，則溶液的過飽度較大，生成微小晶體，附著在結晶表面，影響結晶產品的質量。蒸發速度應與結晶生長速率相適應，保持溶液的過飽和度一定。工業結晶操作常采用真空絕熱蒸發，不設外部循環加熱裝置，蒸發室內溫度較低，可防止過飽和度的劇烈變化。

3．攪拌與混合
增大攪拌速度可提高成核和生長速率，攪拌速度過快會造成晶體的剪切破碎，影響結晶產品質量。為獲得較好的混合狀態，同時避免結晶的破碎，可采用氣提式混合方式，或利用直徑或葉片較大的攪拌槳，降低槳的轉速。
 
4．溶劑與pH值
結晶操作采用的溶劑和pH值應使目標溶質的溶解度較低，以提高結晶的收率。溶劑和pH值對晶形有影響。如普魯卡因青霉素在水溶液中的結晶為方形晶體，在醋酸丁酯中的結晶為長棒狀。在設計結晶操作前需實驗確定使結晶晶形較好的溶劑和pH值。

5.晶種
向處于介穩區的過飽和溶液中添加顆粒均勻的晶種。對于溶液粘度較高的物系，晶核很難產生，而在高過飽度下，一旦產生晶核，就會同時出現大量晶核，容易發生聚晶現象，產品質量不易控制。
高粘度物系必須用在介穩區內添加晶種的操作方法。

6．晶漿濃度
晶漿濃度越高，單位體積結晶器中結晶表面積越大，結晶生長速率越快，有利于提高結晶生產速度(產量)。但晶漿濃度過高時，懸浮液的流動性差，混合操作困難。
晶漿濃度應在操作條件允許的范圍內取{zd0}值。在間歇操作中，晶種的添加量應根據最終結晶產品的大小，滿足晶漿濃度{zd0}的{gx}生產要求。

7．循環流速
用外部循環式結晶器時，循環流速的設定要合理。
提高循環流速
1）有利于消除設備內的過飽和度分布，使設備內的結晶成核速率及生長速率分布均勻；
2）可增大固液表面傳質系數，提高結晶生長速率；
3）提高換熱效率，抑制換熱器表面晶垢的生成；
循環流速過高會造成結晶的磨損破碎。循環流速應在無結晶磨損破碎的范圍內取較大的值。如果結晶器具備結晶分級功能，循環流速也不宜過高，應保證分級功能的正常發揮。

8．結晶系統的晶垢 
結晶器壁及循環系統中產生晶垢，影響結晶過程效率。
防止晶垢或除去晶垢方法：
1）壁內表面采用有機涂料，保持壁面光滑，防止在器壁上的二維成核現象的發生；
2）提高結晶系統中流體流速，使流速分布均勻，消除低流速區；
3）若外循環液體為過飽和溶液，使其中不含有晶種；
4）采用夾套保溫方式防止壁面附近過飽和度過高；
5）增設晶垢鏟除裝置，定期添加溶劑溶解產生的晶垢；
6）蒸發室壁面極易產生晶垢，可采用噴淋溶劑的方式溶解晶垢。

9．共存雜質的影響
結晶的對象是多組分物系，要選擇性結晶目標產物。
如果共存雜質的濃度較低，一般對目標產物的結晶無明顯影響。但如果在結晶操作中雜質含量不斷升高(如采用蒸發式結晶操作時)，雜質的積累會嚴重影響目標產物結晶的純度。
結晶操作中需要控制雜質的含量，往往在結晶系統中增設除雜設備。離子交換柱或廢液排放。