利用真空狀態下弧光放電原理的離子鍍膜技術，是率先發展起來的真空鍍膜方式，具有沉積速率高、結合牢固、設備運行穩定等優點，我們在傳統多弧的基礎上，對靶結構、磁鐵、冷卻等進行了嚴格的改進和設計，提高了離化率、細化顆粒，膜層和基材結合更加牢固、膜層更加致密，硬度耐磨性顯著提高，厚度可以控制在0.5微米—5微米之間，是普通裝飾鍍和工具鍍膜的{sx}機型。
   根據市場的需求公司研制出輔助陽極、磁過濾、矩形平面靶、圓柱旋轉電弧靶等衍生產品，沉積的膜層達到納米量級，是制備高硬度、高結合力、高耐膜性ta-C、DLC、高質量金屬膜層的良好選擇。

▲真空室箱體：主要規格有800*1000mm、1000*1200mm、1200*1500mm、1500*1600mm、1800*1950mm，并可以根據客戶具體要求設計非標產品。

▲夾具方式：采用公自轉行星式齒輪結構，工件速度在1-15轉/分鐘可調，掛具有6軸、8軸、10軸、12軸等各種規格，適合不同大小尺寸的裝飾、工具鍍膜。

▲控制氣體方式：采用質量流量計控制，進氣穩定，反應速度快，可以配加自動壓強控制。

▲靶:采用整體制造技術，結構合理而簡單，維護更換靶材方便，具有自動/手動引弧功能。

▲電源：配置直流脈沖電源（電壓、占空比可調節），逆變電弧電源。

▲抽氣系統：采用國產品牌機械泵、羅茨泵、擴散泵，根據其真空室大小確定合理型號。也可以根據客戶的需要配備分子泵或者進口泵等。

▲抽真空參數：從大氣抽至5*10‾³Pa≤15min極限真空度8*10‾4Pa控制系統可以選用手動控制；計算機控制，觸摸屏面板控制。