此設(shè)備是一種{gx}、無(wú)害、無(wú)污染的離子鍍膜設(shè)備，具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設(shè)備操作簡(jiǎn)單、成本低、生產(chǎn)量大的優(yōu)點(diǎn)。
真空電弧離子的原理是基冷陰極自持弧光放電結(jié)合脈沖技術(shù)及磁控濺射技術(shù)，使沉積粒子細(xì)化，膜層的各項(xiàng)性能得以提高。它不僅能在金屬制品表面進(jìn)行鍍膜而且能在非金屬制品表面制品上進(jìn)行鍍膜，可以鍍金屬膜、氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻、及鈦、鎳、鉻、銅、等化合物膜、多層超硬膜、氮化鈦摻金膜和合金膜，并能在極短的時(shí)間內(nèi)完成全部加工工藝過(guò)程，是一種多功能{gx}鍍膜設(shè)備。廣泛應(yīng)用于工具、模具的超硬涂層，汽車(chē)輪轂、陶瓷、高爾夫、制表、酒店用品、衛(wèi)生潔具、燈具、眼鏡鏡架、五金制品的裝飾涂層等領(lǐng)域。
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型號(hào)
真空室尺寸
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LH-800
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LH-1000
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LH-1250
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￠800×1000MM
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￠1000×1000MM
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￠1250×1100MM
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鍍膜方式及主要配置
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八個(gè)多弧靶
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十個(gè)多弧靶
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十二個(gè)多弧源
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鍍膜方式及主要配置
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電弧電源、燈絲電源、脈沖偏壓電源
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工藝氣體控制
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質(zhì)量流量計(jì)+電磁陶瓷閥
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真空室結(jié)構(gòu)
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立式側(cè)（單）開(kāi)門(mén)結(jié)構(gòu)，后置抽氣系統(tǒng)，雙層水冷
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真空系統(tǒng)組成
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分子泵+羅茨泵+機(jī)械泵（5.0×10-4PA），擴(kuò)散泵+羅茨泵+機(jī)械泵（5.0×10-4PA）
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工件烘烤溫度
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常溫到350度可調(diào)可控(PID控溫),輻射加熱
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工件運(yùn)動(dòng)方式
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公自轉(zhuǎn)變頻調(diào)速,0~20轉(zhuǎn)/分
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測(cè)量方式
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數(shù)顯復(fù)合真空計(jì):測(cè)量范圍從大氣至1.0×10-5PA
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控制方式
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手動(dòng)/自動(dòng)/PC/PLC+HMI/PC四種方式可選
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備注
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以上設(shè)備可按客戶(hù)實(shí)際及特殊工藝要求設(shè)計(jì)訂做
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