此設備是一種{gx}、無害、無污染的離子鍍膜設備，具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設備操作簡單、成本低、生產量大的優點。
真空電弧離子的原理是基冷陰極自持弧光放電結合脈沖技術及磁控濺射技術，使沉積粒子細化，膜層的各項性能得以提高。它不僅能在金屬制品表面進行鍍膜而且能在非金屬制品表面制品上進行鍍膜，可以鍍金屬膜、氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻、及鈦、鎳、鉻、銅、等化合物膜、多層超硬膜、氮化鈦摻金膜和合金膜，并能在極短的時間內完成全部加工工藝過程，是一種多功能{gx}鍍膜設備。廣泛應用于工具、模具的超硬涂層，汽車輪轂、陶瓷、高爾夫、制表、酒店用品、衛生潔具、燈具、眼鏡鏡架、五金制品的裝飾涂層等領域。
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型號
真空室尺寸
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LH-800
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LH-1000
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LH-1250
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￠800×1000MM
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￠1000×1000MM
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￠1250×1100MM
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鍍膜方式及主要配置
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八個多弧靶
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十個多弧靶
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十二個多弧源
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鍍膜方式及主要配置
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電弧電源、燈絲電源、脈沖偏壓電源
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工藝氣體控制
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質量流量計+電磁陶瓷閥
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真空室結構
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立式側（單）開門結構，后置抽氣系統，雙層水冷
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真空系統組成
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分子泵+羅茨泵+機械泵（5.0×10-4PA），擴散泵+羅茨泵+機械泵（5.0×10-4PA）
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工件烘烤溫度
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常溫到350度可調可控(PID控溫),輻射加熱
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工件運動方式
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公自轉變頻調速,0~20轉/分
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測量方式
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數顯復合真空計:測量范圍從大氣至1.0×10-5PA
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控制方式
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手動/自動/PC/PLC+HMI/PC四種方式可選
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備注
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以上設備可按客戶實際及特殊工藝要求設計訂做
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